| 详细介绍：
CR-2000硬铬电镀工艺是高新技术和创造思维的结晶，完全不同与常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺，其工艺操作简单，补给水单一添加，镀液维护方便。
一、工艺特点：
1.阴极电流效率高，可达23-25%
2.沉积速度快，是一般普通电镀铬的2-3倍
3.无阴极低电流区腐蚀
4.镀层平滑，结晶细致光亮
5.高镀层硬度，可达HV900-1150
6.微裂纹可达400-600条/厘米
7.镀层厚度均匀，无高电流区沉积过厚
8.可使用高电流密度，可达90安培/平方分米
9.镀液维护简单，操作容易
10.无阳极腐蚀，不需采用特殊阳极
11.无固体添加之铭尘和溅水现象
二、镀液配方和操作工艺：
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成分和物理参数
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一般零件
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活塞环
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范围
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标准
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范围
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标准
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铬酐(克/升)
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210-250
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230
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165-190
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180
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硫suan(克/升)
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2.4-3.5
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2.7
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1.8-2.1
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2.0
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温度(℃)
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55-60
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57
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55-60
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57
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阴极电流密度(安培/平方分米)
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30-75
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60
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30-75
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60
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阳级电流密度(安培/平方分米)
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15-35
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30
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15-35
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30
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三、镀液配制：
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镀件
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铬酐浓度
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100升镀液
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一般零件
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210-250克/升
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2升CR-2000
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活塞环
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165-190克/升
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1.45升CR-2000
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1.清洗槽子
2.注入一半体积去离子水
3.加入所需量的铬酐
4.添加所需量的CR-2000
5.加入去离子水、调节至规定液面
6.加热至55-60℃
7.分析硫suan浓度，调整至规定工艺范围
8.电解4小时
9.加入适宜的铬雾抑制剂
10.试镀
四、沉积速度：
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阴极电流密度(安培/平方分米)
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沉积速度(微米/小时)
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30
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20-30
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45
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40-50
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60
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50-70
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75
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70-90
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五、设备：
镀槽：铁槽内衬软PVC或其它认可材料。
阳极：含锡7%铅锡阳极或其它认可材料。
整流器：输出电压可达9-16伏较适宜，输出电流波纹率00在5%以下。
温度控制：采用热交换器或冷却管，建议采用钛管或金属披覆聚四氟乙烯。
六、转缸及前处理：
传统的硬铬液转为CR-2000工艺简单，将镀液送交本厂化验。
确认无机杂质小于7.5克/升，同时不含氟化物即可，CR-2000工艺的前处理同一般传统镀铬相同无需特殊处理。
七、槽液维护：
CR-2000用于槽液之补充添加，按每千安培小时补充4-6毫升。 | 
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