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lpcvd气相沉积设备的供货商放大图片

产品价格：120000   元(人民币)
上架日期：2015年4月25日
产地：青岛
发货地：青岛  (发货期：当天内发货)
供应数量：不限
最少起订：1台
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青岛福润德微电子设备有限公司

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  详细说明  
品牌：福润德产地：青岛
价格：120000人民币/台规格：frd-106

简要说明：福润德牌的lpcvd气相沉积设备的供货商产品：估价：120000，规格：frd-106，产品系列编号：0

详细介绍：

　　

LPCVD是用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并淀积形成稳定固体薄膜。由于工作压力低.气体分子的平均自由程和扩散系数大，故可采用密集装片方式来提高生产率，并在衬底表面获得均匀性良好的薄膜淀积层。LPCVD 用于淀积Poly-Si、Si3N4、SiO2、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅及难熔金属硅化物等多种薄膜。广泛应用于半导体集成电路、电力、电子、光电子及MEMS等行业的生产工艺中。

■ 主要技术指标

◆ 适用硅片尺寸：4~6 "                                 ◆ 工作温度范围：350~1000℃                     

◆ 恒温长度及精度：760mm±1℃                          ◆ 温度梯度：0~30℃可调              

◆ 系统极限真空度：0.8 Pa                              ◆ 工作压力范围：30Pa~133Pa可调          

◆ 淀积膜种类：Si3N4  片内  ＜±3%  片间  ＜±3%  批间  ＜±4% 

◆ 淀积膜均匀性：Poiy-Si  片内  ＜±3%  片间  ＜±3%  批间  ＜±4%

◆ 淀积膜均匀性：SiO2  片内  ＜±3% 


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