集成电路用超纯水设备系统工艺流程

      集成电路超纯水设备系统采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm

1、采用离子交换方式，其流程如下：

      原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

2、采用两级反渗透方式，其流程如下：

      原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

3、采用EDI方式，其流程如下：

      原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

标准参考

      显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据）

      集成电路用纯水水质

      国家电子级纯水标准

      国家电子级纯水标准

      中国国家电子级超纯水规格 GB/T 11446.1-1997