储罐清洗 不锈钢管道清洗厂家 找蓝化化学清洗
传统的RCA清洗技术：所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统



清洗工序：SC-1 → DHF → SC-2



1. SC-1清洗去除颗粒：


⑴ 目的：主要是去除颗粒沾污（粒子）也能去除部分金属杂质。



⑵ 去除颗粒的原理：



硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜（约6nm呈亲水性），该氧化膜又被NH4OH腐蚀，腐蚀后立即又发生氧化，氧化和腐蚀反复进行，因此附着在硅片表面的颗粒也随腐蚀层而落入清洗液内。


① 自然氧化膜约0.6nm厚，其与NH4OH、H2O2浓度及清洗液温 度无关。


② SiO2的腐蚀速度，随NH4OH的浓度升高而加快，其与H2O2的浓度无关。


③ Si的腐蚀速度，随NH4OH的浓度升高而快，当到达某一浓度后为一定值，H2O2浓度越高这一值越小。