2.化学清洗的重要性

过程中的每一个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的质量严重影响实验结果。如果处理不当，实验结果将不可用或不好。因此，明确化学清洗的作用和原理具有重要意义。众所周知，半导体的一个重要特性是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会影响半导体的物理性能。我们利用这一特性通过掺杂制造具有各种功能的半导体器件。然而，由于这一特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。使用过的化学试剂、生产工具、清洗水等都可能成为有害杂质的污染源。即使干净的半导体晶圆长时间暴露在空气中，也会造成明显的杂质污染。化学清洗是去除有害杂质，保持硅片表面清洁。

3、化学清洗的范围

化学清洗主要包括三个方面：一是清洗硅片表面；二、清洗用过的金属材料（如蒸发电极用钨丝、蒸发垫用钼片、蒸发源用铝合金、铬板用铬等）；三是清洁工具和器具（如金属镊子、石英管、玻璃容器、石墨模具、塑料和橡胶制品等）。

4、工业化学清洗的应用类别

化学清洗行业的发展不仅为全社会提供有效的技术服务，而且成为社会文明的重要标志。随着国家工业化和现代化的进程以及社会生产和日常生活的需要，化学清洗得到了广泛的应用。