抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面做氧化还原的动力学步骤。这是反应的主体。抛光表面反应物脱开硅单晶表面，即解吸步骤使未作用的硅单晶重新裸露出来的动力学步骤。它是管控抛光速率的另一个关键步骤。如若化学腐蚀成效大于机械抛光成效，则抛光片表面生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如若机械磨削成效大于化学腐蚀成效，则表面生成高损坏层！

探擎科技针对玻璃抛光液模拟的分析化验工程：

成分检测：对物品中的主要配方组成成分经由仪器的精密分析还原相关微观谱图比对谱图数据库分析检测出所有成分组分。

提供生产：在分析检测出玻璃抛光液模拟配方组分后，若厂家有条件，可在一定程度上辅导客户做生产

配方分析成分还原：经过分析所有成分试剂及其含量，分析出玻璃抛光液模拟。

异物分析：就玻璃抛光液模拟中的异物，抉择其配方组成成分，提供厂家分析检测出该异物是怎样生成的。

探擎科技分析检测玻璃抛光液模拟配方组分的实力：

（1）先进的检测仪器：探擎科技自主建立试验场地，具有多台先进仪器，能多方面分析检测物品，还原图谱

（2）核心的分析检测工程师：探擎科技具有专业的分析还原工程师和成熟的领域生产研究经验知识，帮厂家解决化工配方组分难题。

（3）成熟的谱图：探擎科技积累了深厚的配方组分解析经验知识，具有比较大的谱图库。

（4）以后方案：探擎科技可以根据客户需要，提供以后跟踪技术性方案。