抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主要。抛光表面反应物脱掉硅单晶表面，即解吸步骤使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学步骤。它是抑制抛光速率的另一个重要步骤。如果化工腐蚀功效大于机械抛光功效，则抛光片表面生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削功效大于化工腐蚀功效，则表面生成高损坏层！

探擎科技有限公司专注于低温抛光剂的成分化验工程：

成分含量分析：对产品中的关键配方组成成分经过仪器分析得到有关微观谱图比对谱图数据库定性定量分析出基本成分成分。

辅导研发：在定性定量分析出低温抛光剂配方成份后，若厂家有意向，可在一定程度上辅助企业进行研发

配方组分分析还原：通过分析基本成分配方组成及其含量，分析出低温抛光剂。

不明物分析：就低温抛光剂中的不明物，判断其配方组成成分，辅导厂家定性定量分析出该不明物是怎样生成的。

探擎科技有限公司定性定量分析低温抛光剂配方成份的优势：

（1）先进的仪器：探擎科技有限公司自行设立试验场地，具有多台先进仪器，能多方面定性定量分析产品，得到图谱

（2）专业的定性定量分析技术员：探擎科技有限公司具有致力的分析测试技术员和成功的行业研发研究行业经验，帮助厂家处理化工配方成份问题。

（3）成功的谱图库：探擎科技有限公司积攒了深厚的配方成份分析行业经验，具有比较大的谱图库库。

（4）后期方案：探擎科技有限公司可以参照企业需要，专业提供后期跟踪工艺性方案。