抛光最开始使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学过程。这是综合反应的主要。抛光表层反应物脱掉硅单晶表层，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是抑制抛光速率的另一个重要过程。如若化工腐蚀功效大于机械抛光功效，则抛光片表层生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如若机械磨削功效大于化工腐蚀功效，则表层生成高伤害层！

探擎科技专注于钻石抛光膏的分析测试项目：

成分分析：对产品中的关键配方组成成分经过精密仪器的分析得到有关微观谱图比对谱图数据库分析检测出基本成分成分。

辅助研发：在分析检测出钻石抛光膏配方比例后，若厂家有条件，可在固定程度上辅导企业做研发

配方成分分析检测：运用化验基本成分配方结构及其含量，解析出钻石抛光膏。

异物检测：就钻石抛光膏中的异物，抉择其配方组成成分，辅助厂家分析检测出该异物是如何生成的。

探擎科技分析检测钻石抛光膏配方比例的优点：

（1）先进的仪器：探擎科技自行设立实验室，具有多台先进仪器，能多领域分析检测产品，得到图谱

（2）专业的分析检测工程师：探擎科技具有专职的分析检测工程师和丰富的行业研发研发技术经验，帮厂家消除化工配方比例问题。

（3）丰富的谱图：探擎科技积累了深厚的配方比例解析技术经验，具有较大的谱图库。

（4）后期指导：探擎科技可以参照企业需要，专业提供后期跟踪工艺性指导。