抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主体。抛光表层反应物摆脱硅单晶表层，即解吸步骤使未作用的硅单晶再次裸露出来的动力学步骤。它是限制抛光速率的另一个核心步骤。假如化工腐蚀用途大于机械抛光用途，则抛光片表层产生腐蚀坑、桔皮状波纹。假如机械磨削用途大于化工腐蚀用途，则表层产生高伤害层！

探擎科技有限公司针对玉石抛光膏的分析测试工程：

成分分析：对化学品中的关键配方组成成分通过许多大型仪器同时使用化验出有关微观谱图比对谱图数据库分析检测出所有成分成分含量比例。

提供制造：在分析检测出玉石抛光膏配方后，若企业有意向，可在一定程度上辅导客户做制造

配方分析成分还原：运用化验所有成分助剂及其比例，解析出玉石抛光膏。

未知物诊断：就玉石抛光膏中的未知物，抉择其配方组成成分，提供企业分析检测出该未知物是怎么产生的。

探擎科技有限公司分析检测玉石抛光膏配方的优势：

（1）先进的谱图仪器：探擎科技有限公司自行创建实验场所，拥有多台先进仪器，能多方面分析检测化学品，化验出图谱

（2）核心的分析检测工程师：探擎科技有限公司拥有职业的分析检测工程师和成熟的方面制造研发技术经验，帮助企业搞定化学配方问题。

（3）成熟的谱图构象：探擎科技有限公司积累了深厚的配方分析技术经验，拥有较多的谱图构象库。

（4）后期指导：探擎科技有限公司能够依据客户需求，提供后期跟踪工艺性指导。