抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是综合反应的主要。抛光表面反应物摆脱硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是管控抛光速率的另一个重要过程。如果化学腐蚀功能大于机械抛光功能，则抛光片表面生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削功能大于化学腐蚀功能，则表面生成高伤害层！

探擎科技面向研磨粉的技术服务项目：

成分含量测试：对产品中的基本助剂组成成分经过精密仪器的分析获得相关微观谱图比对谱图数据库分析检测出各组分成分。

辅导开发：在分析检测出研磨粉配方后，若厂家有意向，可在一定程度上辅助厂家进行开发

配方组分分析还原：运用化验各组分组份及其含量，剖析出研磨粉。

异物分析：就研磨粉中的异物，选择其助剂组成成分，辅导厂家分析检测出该异物是怎样生成的。

探擎科技分析检测研磨粉配方的优势：

（1）先进的仪器：探擎科技独立创建试验场地，具有多台先进仪器，能多方面分析检测产品，获得图谱

（2）专业核心的分析检测工程师：探擎科技具有专业的分析还原工程师和娴熟的行业开发研究生产经验，帮助厂家搞定化工配方问题。

（3）娴熟的图谱：探擎科技积淀了深厚的配方剖析生产经验，具有较大的图谱库。

（4）后面方案：探擎科技可以参照厂家需要，提供后面跟踪技术性方案。