抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学进程。这是化学反应的主要。抛光表面反应物摆脱硅单晶表面，即解吸进程使未作用的硅单晶重新裸露出来的动力学进程。它是控制抛光速率的另一个重要进程。若是化学腐蚀功能大于机械抛光功能，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。若是机械磨削功能大于化学腐蚀功能，则表面产生高损坏层！

探擎科技有限公司面向水性磨削液的服务项目：

成分含量测试：对产品中的基本配方组成成分经由许多大型仪器同时使用获得相关微观谱图比对谱图数据库定性定量分析出基本成分组分含量比例。

提供研发：在定性定量分析出水性磨削液配方成份后，若厂家有条件，可在固定程度上辅导厂家进行研发

配方组分分析：运用分析基本成分配方组成及其含量，剖析出水性磨削液。

未知物检测：就水性磨削液中的未知物，选择其配方组成成分，提供厂家定性定量分析出该未知物是怎么产生的。

探擎科技有限公司定性定量分析水性磨削液配方成份的优点：

（1）先进的仪器：探擎科技有限公司自主建立实验场所，具有多台先进仪器，能多方面定性定量分析产品，获得图谱

（2）专业核心的定性定量分析工程师：探擎科技有限公司具有致力的分析化验工程师和娴熟的行业研发研发生产经验，帮助厂家搞定化工配方成份难题。

（3）娴熟的图谱：探擎科技有限公司积累了深厚的配方成份剖析生产经验，具有较多的图谱库。

（4）后期方案：探擎科技有限公司能够参照厂家需要，专业提供后期跟踪工艺性方案。