抛光最开始使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主流。抛光表层反应物摆脱硅单晶表层，即解吸步骤使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学步骤。它是管控抛光速率的另一个关键步骤。如若化工腐蚀成效大于机械抛光成效，则抛光片表层生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如若机械磨削成效大于化工腐蚀成效，则表层生成高伤害层！

探擎科技针对手表抛光膏的分析服务项目：

成分含量测试：对产品中的基本配方组成成分经由仪器分析得到相关微观谱图比对谱图数据库分析检测出各组分组分。

辅导生产：在分析检测出手表抛光膏配方组分后，若客户有意向，可在固定程度上辅导厂家做生产

配方分析成分还原：通过分析各组分组分及其含量，解析出手表抛光膏。

不明物检测：就手表抛光膏中的不明物，抉择其配方组成成分，辅导客户分析检测出该不明物是如何生成的。

探擎科技分析检测手表抛光膏配方组分的力量：

（1）先进的检测仪器：探擎科技自主建立实验室，具有多台先进仪器，能多方面分析检测产品，得到图谱

（2）专业核心的分析检测工程师：探擎科技具有专业的分析还原工程师和成熟的领域生产研究技术经验，帮助客户消除化学配方组分难题。

（3）成熟的图谱：探擎科技积累了深厚的配方组分剖析技术经验，具有较多的图谱库。

（4）后面方案：探擎科技能够根据厂家需要，提供后面跟踪技术性方案。