抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学进程。这是化学反应的主流。抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸进程使未作用的硅单晶重新裸露出来的动力学进程。它是管控抛光速率的另一个关键进程。若是化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面生成腐蚀坑、桔皮状波纹。若是机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面生成高损坏层！

探擎科技专注于汽车抛光蜡的分析咨询项目：

成分分析：对物品中的基本组成成分经由许多大型仪器同时使用分析出相关微观谱图比对谱图数据库分析出各组分含量。

提供生产：在分析出汽车抛光蜡配方比例后，若客户有条件，可在一定程度上辅助企业进行生产

配方组分分析还原：经过还原各组分组份及其含量，分析出汽车抛光蜡。

不明物分析：就汽车抛光蜡中的不明物，判断其组成成分，提供客户分析出该不明物是怎样生成的。

探擎科技分析汽车抛光蜡配方比例的力量：

（1）先进的接受仪器：探擎科技自主建立试验场地，具有多台先进仪器，能多领域分析物品，分析出图谱

（2）专业的分析工程师：探擎科技具有专职的分析测试工程师和成熟的领域生产研发配方经验，帮助客户解决化工配方比例难题。

（3）成熟的谱图库：探擎科技积淀了深厚的配方比例分析配方经验，具有比较大的谱图库库。

（4）后面指导：探擎科技能够根据企业需要，提供后面跟踪技术性指导。