抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学步骤。这是化学反应的主流。抛光表层反应物脱离硅单晶表层，即解吸步骤使未反应的硅单晶再次裸露出来的动力学步骤。它是抑制抛光速率的另一个关键步骤。假如化学腐蚀功效大于机械抛光功效，则抛光片表层产生腐蚀坑、桔皮状波纹。假如机械磨削功效大于化学腐蚀功效，则表层产生高损坏层！

探擎科技专注磨削液研究的分析检测项目：

成分分析：对东西中的主要助剂组成成分通过仪器分析得到有关微观谱图比对谱图数据库定性定量分析出所有成分组分。

提供制造：在定性定量分析出磨削液研究配方组分后，若企业有条件，可在固定程度上辅助厂家做制造

配方成分分析检测：通过分析所有成分助剂及其含量，解析出磨削液研究。

不明物分析：就磨削液研究中的不明物，确定其助剂组成成分，提供企业定性定量分析出该不明物是如何产生的。

探擎科技定性定量分析磨削液研究配方组分的实力：

（1）先进的检测仪器：探擎科技自行建立实验室，具有多台先进仪器，能多方面定性定量分析东西，得到图谱

（2）核心的定性定量分析技术员：探擎科技具有专业的分析还原技术员和娴熟的方面制造研究经验知识，帮助企业消除化工配方组分问题。

（3）娴熟的谱图库：探擎科技积累了深厚的配方组分解析经验知识，具有较大的谱图库库。

（4）后期方案：探擎科技可以参照厂家需求，提供后期跟踪技术性方案。