抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层进行氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主体。抛光表层反应物摆脱硅单晶表层，即解吸步骤使未反应的硅单晶再次裸露出来的动力学步骤。它是管控抛光速率的另一个关键步骤。若是化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表层生成腐蚀坑、桔皮状波纹。若是机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表层生成高损坏层！

探擎科技专注铝及铝合金抛光剂的成分化验工程：

成分分析：对物品中的基本配方组成成分通过仪器分析还原相关微观谱图比对谱图数据库分析出各组分含量。

辅助生产：在分析出铝及铝合金抛光剂配方组分后，若企业有意向，可在一定程度上辅导企业进行生产

配方分析成分还原：经过还原各组分组份及其含量，分析出铝及铝合金抛光剂。

不明物检测：就铝及铝合金抛光剂中的不明物，确定其配方组成成分，辅助企业分析出该不明物是怎样生成的。

探擎科技分析铝及铝合金抛光剂配方组分的实力：

（1）先进的接受仪器：探擎科技自主创建试验场地，拥有多台先进仪器，能多领域分析物品，还原图谱

（2）专业的分析工程师：探擎科技拥有专职的分析检测工程师和成功的领域生产研发生产经验，帮助企业解决化工配方组分问题。

（3）成功的谱图库：探擎科技积淀了深厚的配方组分分析生产经验，拥有较多的谱图库库。

（4）后面指导：探擎科技可以根据企业需求，提供后面跟踪技术性指导。