抛光首要使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层进行氧化还原的动力学步骤。这是反应的主体。抛光表层反应物脱离硅单晶表层，即解吸步骤使未作用的硅单晶再次裸露出来的动力学步骤。它是限制抛光速率的另一个核心步骤。若是化工腐蚀用途大于机械抛光用途，则抛光片表层产生腐蚀坑、桔皮状波纹。若是机械磨削用途大于化工腐蚀用途，则表层产生高伤害层！

探擎科技专注蓝宝石衬底抛光液的分析咨询工程：

成分分析：对物品中的基本配方组成成分通过仪器的精密分析分析出相关微观谱图比对谱图数据库分析出各种成分成分含量比例。

辅导制造：在分析出蓝宝石衬底抛光液配方比例后，若企业有条件，可在一定程度上辅导客户进行制造

配方分析还原：经过还原各种成分组成及其比例，分析出蓝宝石衬底抛光液。

未知物分析：就蓝宝石衬底抛光液中的未知物，判断其配方组成成分，辅导企业分析出该未知物是如何产生的。

探擎科技分析蓝宝石衬底抛光液配方比例的实力：

（1）先进的仪器：探擎科技独立设立试验场地，拥有多台先进仪器，能多领域分析物品，分析出图谱

（2）专业核心的分析工程师：探擎科技拥有职业的分析测试工程师和成功的领域制造研究配方经验，帮企业解决化学配方比例问题。

（3）成功的图谱表征：探擎科技积淀了深厚的配方比例剖析配方经验，拥有较大的图谱表征库。

（4）以后指导：探擎科技能够根据客户需求，提供以后跟踪技术性指导。