抛光最开始使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学步骤。这是综合反应的主要。抛光表层反应物摆脱硅单晶表层，即解吸步骤使未反应的硅单晶再次裸露出来的动力学步骤。它是控制抛光速率的另一个核心步骤。如若化工腐蚀目的大于机械抛光目的，则抛光片表层生成腐蚀坑、桔皮状波纹。如若机械磨削目的大于化工腐蚀目的，则表层生成高伤害层！

探擎科技针对镜面抛光液是什么的分析服务项目：

成分含量测试：对产品中的基本助剂组成成分经由精密仪器的分析还原相关微观谱图比对谱图数据库分析检测出全组分组分含量比例。

提供生产：在分析检测出镜面抛光液是什么配方后，若厂家有意向，可在一定程度上辅导企业做生产

配方化验成分含量还原：运用化验全组分组分及其含量，分析出镜面抛光液是什么。

异物分析：就镜面抛光液是什么中的异物，抉择其助剂组成成分，提供厂家分析检测出该异物是怎样生成的。

探擎科技分析检测镜面抛光液是什么配方的优点：

（1）先进的检测仪器：探擎科技独立创建实验室，拥有多台先进仪器，能多方面分析检测产品，还原图谱

（2）专业核心的分析检测技术员：探擎科技拥有专职的分析检测技术员和成功的行业生产研发配方经验，帮助厂家解决化学配方问题。

（3）成功的图谱：探擎科技积累了深厚的配方剖析配方经验，拥有比较大的图谱库。

（4）后面指导：探擎科技可以依据企业需求，专业提供后面跟踪工艺性指导。