抛光最开始使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表层的硅原子在表层做氧化还原的动力学过程。这是综合反应的主要。抛光表层反应物脱离硅单晶表层，即解吸过程使未反应的硅单晶再次裸露出来的动力学过程。它是抑制抛光速率的另一个核心过程。若是化工腐蚀功能大于机械抛光功能，则抛光片表层生成腐蚀坑、桔皮状波纹。若是机械磨削功能大于化工腐蚀功能，则表层生成高伤害层！

探擎科技有限公司专注于玉器抛光液的分析检测项目：

成分分析：对产品中的关键配方结构成分经过精密仪器的分析得到相关微观谱图比对谱图数据库分析出基本成分成分含量比例。

辅导研发：在分析出玉器抛光液配方成份后，若企业有条件，可在一定程度上辅导企业做研发

配方成分分析检测：经过分析基本成分配方组成及其含量，解析出玉器抛光液。

未知物检测：就玉器抛光液中的未知物，抉择其配方结构成分，辅导企业分析出该未知物是怎样生成的。

探擎科技有限公司分析玉器抛光液配方成份的优势：

（1）先进的仪器：探擎科技有限公司自己创建实验室，具有多台先进仪器，能多方面分析产品，得到图谱

（2）专业的分析工程师：探擎科技有限公司具有致力的分析化验工程师和成熟的行业研发研发配方经验，帮助企业消除化学配方成份问题。

（3）成熟的谱图库：探擎科技有限公司积淀了深厚的配方成份剖析配方经验，具有较大的谱图库库。

（4）后面指导：探擎科技有限公司能够参照企业需求，专业提供后面跟踪工艺性指导。