半导体清洗剂，半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

清洗剂

半导体清洗剂产品用途
半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

产品特点
该清洗剂清洗效果相当于或略优于传统清洗工艺，成本却大大降低，只有传统清洗工艺成本的10~30%，无腐蚀性、对人体无危害、对环境无污染，经济效益显著。